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    国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

    时间:2023-04-24 12:59:58  编辑:  来源:北京商报  浏览:368次   【】【】【网站投稿
    北京商报讯4月24日,国新办举行新闻发布会介绍2022年中国知识产权发展状况。国家知识产权局局长申长雨在发布会上表示,将统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制修订工作。其中,修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要,助力芯片产业做大做强,服务数字经济更好发展。强大数据、人工智能、基因技术等新领域新业态知识产权规则研究,助

    北京商报讯(记者 方彬楠 袁泽睿)4月24日,国新办举行新闻发布会介绍2022年中国知识产权发展状况。国家知识产权局局长申长雨在发布会上表示,将统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制修订工作。其中,修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要,助力芯片产业做大做强,服务数字经济更好发展。强大数据、人工智能、基因技术等新领域新业态知识产权规则研究,助力相关领域创新发展。同时,积极参与知识产权国际规则制定,更好对接高标准国际经贸规则,助力高水平对外开放。

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